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武汉安沁美半导体精密电子行业EDI高纯水设备关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

电子原料生产用EDI高纯水设备首选安吉尔水处理设备，我公司设计的半导体精密电子行业EDI高纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm

半导体精密电子行业EDI设备/EDI超纯水/EDI去离子水/EDI高纯水设备的技术特点
电去离子(EDI)技术是一种将电渗析和离子交换有机结合在一起的脱盐新工艺，英文名称electrodeionization，缩写EDI，该工艺过程取电渗析和离子交换两者之长，弥补对方之短，即利用离子交换深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底，又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH－实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷。因而EDI技术是一种完美的除盐工艺。

半导体精密电子行业EDI设备/EDI超纯水/EDI去离子水/EDI高纯水设备技术的先进性
*不需化学再生药剂，生产过程无任何污染，属清洁生产；
*不需停机再生,连续生产水质稳定的高纯水(15～18MΩ·cm)；
*运行稳定可靠，维护简单、运行费用低；
*占地面积小，节约场地建设费用。

☆半导体材料、器件、印刷电·板和集成电·
☆电解电容☆半导体材料、器件、印刷电·板和集成电·
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆集成电·生产中高纯水清洗硅片
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆ 集成电·生产中高纯水清洗硅片
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
 

二级反渗透制备超纯水工艺流程
预处理(砂滤器、碳滤器、软化器) →一级反渗透装置→中间水箱→二级反渗透装置 →超纯水水箱→纯水泵→用水点

一级反渗透+混床制备超纯水工艺流程
预处理→一级反渗透装置→精制混床→精密过滤器→超纯水水箱→纯水泵→用水点

二级反渗透+抛光混床制备超纯水工艺流程
预处理→一级反渗透装置→中间水箱→二级反渗透装置→抛光混床→精密过滤器→超纯水水箱→纯水泵→用水点

二级反渗透+EDI+抛光混床制备超纯水工艺流程     (电阻率18MΩ.cm)
预处理→一级反渗透装置→中间水箱→二级反渗透装置→EDI主机→超纯水水箱→纯水泵→抛光混床→超纯水水箱→纯水泵→用水点

操作压力1.6

出水量0.5-1000

单机出力0.5-1000

电导率0.01

电压380

功率根据处理水量确定

水电阻率10-18.2

脱盐率99

外形尺寸根据处理水量确定